鴻鎵科技非常重視研究發展，申請的專利類型主要以新型專利為主，佔比高達58%，此外，鴻鎵的發明專利佔比也不低，占了29%，為了提升差異化，增加競爭力，積極在現有技術上進行改進和創新。另外在設計專利佔比雖然較少，只有13%，但我們仍舊重視對外觀和形式的設計。總體而言，鴻鎵的專利類型特點體現了其技術研發和創新能力較強的特點。

鴻鎵科技專業製造GaN，其專利內容主要集中在四大區域，分別為產品相關、材料相關、電路相關和結構相關。其中，結構相關專利佔比較高，佔45%，顯示鴻鎵非常注重產品的外部結構和設計，致力於為客戶提供更優質的使用體驗。其次，電路相關專利佔比29%，這表明鴻鎵在對GaN產品的核心電路方面具有較高的研發能力。在材料相關方面，鴻鎵的專利佔比較少，只有7%，但這也反映了其在材料使用上有獨特的技術優勢。最後，產品相關專利佔比19%，這表明鴻鎵專注於提供全方位、高品質的產品方案，從產品的設計、製造到推廣都非常講究。總體而言，這鴻鎵科技在GAN產品研發和生產方面具有全面、深入的專業知識，為客戶提供高品質、高性能的產品和方案。